用曼哈顿设计来实现非曼哈顿形状光学结构的方法

摘要

一种采用曼哈顿设计系统来提供非曼哈顿形状集成电路元件设计的系统和方法，利用多个最小尺寸的多边形(例如矩形)来在非曼哈顿元件边界内进行拟合。矩形是合适的，这样，每个矩形的至少一个顶点与曼哈顿设计系统的栅格点符合。优选通过以相邻栅格点的间距作为每个矩形的高度来形成矩形。在相邻栅格点的距离减小时，设计与非曼哈顿元件的实际形状更好地匹配。因而系统和方法允许使用同一设计软件和设备来同时布置电学和光学线路元件。

主权项

1.一种利用曼哈顿栅格系统来形成非曼哈顿元件集成电路设计的方法，该方法包括步骤：a)确定具体曼哈顿设计和掩膜制造系统的最小栅格分辨率；b)将多边形的相邻顶点间的最小间距限定为一对所选栅格点间的距离；c)在曼哈顿栅格系统中叠加非曼哈顿元件；d)通过在非曼哈顿元件的周边定位每个多边形的至少一个顶点，在非曼哈顿元件的限定空间内拟合多个多边形。