| 发明名称 | 沉积方法及设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种沉积方法及设备，该沉积方法及设备在用于将材料沉积到基板上的过程中提供了均匀的沉积速率和优良的再现性。该沉积方法包括：准备基板，薄膜被沉积在该基板上；准备直线源，该直线源包括多个排成直线的加热熔罐；和使直线源旋转，同时将沉积材料沉积在基板上。 | ||
| 申请公布号 | CN1769513A | 申请公布日期 | 2006.05.10 |
| 申请号 | CN200510117363.4 | 申请日期 | 2005.11.03 |
| 申请人 | 三星SDI株式会社 | 发明人 | 柳承润 |
| 分类号 | C23C14/24(2006.01);C23C14/54(2006.01) | 主分类号 | C23C14/24(2006.01) |
| 代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人 | 郭鸿禧;李友佳 |
| 主权项 | 1、一种沉积方法，包括：准备基板，薄膜被沉积在所述基板上；准备直线源，所述直线源包括多个排成直线的加热熔罐；和使所述直线源旋转，同时所述多个加热熔罐加热沉积材料并将所述沉积材料沉积在所述基板上。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||