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发明名称 Apparatus and Method for Electron Beam Lithography
摘要
申请公布号 KR100577754(B1) 申请公布日期 2006.05.10
申请号 KR20010054187 申请日期 2001.09.04
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;G03F7/207;G03F9/02;H01J37/153;H01J37/20;H01J37/21;H01J37/317;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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