Oberflächenveredeltes Objekt, Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendung des Objektes

摘要

Die Erfindung betrifft ein oberflächenveredeltes Objekt, ein Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendungsmöglichkeiten des Objektes, welches mindestens einen metallischen Grundkörper (12) umfasst, wobei die Oberfläche des Grundkörpers (12) zumindest in einem Flächenabschnitt mit einer Struktur versehen wird, die einen Mittenrauheitswert R¶A¶ größer als 0,4 mum aufweist, wobei in diesem Flächenabschnitt mindestens eine äußere Doppelschicht, bestehend aus einer Titanschicht (13) und einer Deckschicht (14) aus transparentem Titandioxid mit Anteilen kristalliner Phasen Anatas und/oder Rutil, durch ein plasmaunterstütztes PVD-Verfahren auf dem Grundkörper abgeschieden wird, wobei die Summe der Anteile der kristallinen Phasen der Titandioxidschicht (14) größer als 20 Prozent eingestellt wird.