发明名称 | 有机薄膜晶体管及其制作方法 | ||
摘要 | 提供了一种有机薄膜晶体管,包含有机衬底、栅电极、栅绝缘膜、有机半导体膜、源电极和漏电极,且在有机薄膜晶体管中,与栅绝缘膜接触的栅电极平均表面粗糙度Ra为0.1-15nm。这种有机薄膜晶体管,即使其用作栅电极的导体膜制作在形状不固定、平整度比硅晶片差的衬底上,如玻璃环氧树脂衬底上,也能具有稳定的性能特性。 | ||
申请公布号 | CN1768437A | 申请公布日期 | 2006.05.03 |
申请号 | CN200480008727.9 | 申请日期 | 2004.03.31 |
申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 小金井昭雄;诸田孝光 |
分类号 | H01L51/10(2006.01);H01L51/40(2006.01);H05B33/26(2006.01) | 主分类号 | H01L51/10(2006.01) |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
主权项 | 1.一种有机薄膜晶体管,包括:有机衬底;栅电极;栅绝缘膜;有机半导体膜;源电极;以及漏电极,其中与栅绝缘膜接触的栅电极平均表面粗糙度Ra为0.1-15nm。 | ||
地址 | 日本东京 |