| 发明名称 | 光敏树脂膜及其固化膜 | ||
| 摘要 | 本发明的呈未固化状态的光敏树脂膜包含(A)一种特殊的碱溶性共聚物，(B)具有至少一个烯键式不饱和双键的化合物，以及(C)一种辐射敏感的自由基聚合引发剂，通过使用该引发剂，呈未固化状态的、干膜厚度为70μm的涂膜在365nm具有不低于10％的辐射透射率，在405nm具有不低于60％的辐射透射率。以100重量份组分(A)计，该光敏树脂膜中的辐射敏感的自由基聚合引发剂(C)的含量为20－40重量份，并且该光敏树脂膜的干膜厚度不低于50μm。根据该光敏树脂膜可容易地在芯片基底上高精度地形成不低于50μm的高凸起，而常规技术难于形成这样的高凸起。此外，还能抑制元件的连接失效并能提高元件的可靠性。 | ||
| 申请公布号 | CN1768304A | 申请公布日期 | 2006.05.03 |
| 申请号 | CN200480008907.7 | 申请日期 | 2004.03.25 |
| 申请人 | 捷时雅株式会社 | 发明人 | 岩永伸一郎;木村徹;西川耕二 |
| 分类号 | G03F7/033(2006.01);C09D133/04(2006.01) | 主分类号 | G03F7/033(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 周承泽 |
| 主权项 | 1.一种呈未固化状态的光敏树脂膜，它包含：(A)碱溶性共聚物，它包含：(a)得自α-甲基-对羟基苯乙烯的组成单元，其含量为1-30重量％，(b)得自具有羧基的可自由基聚合的化合物的组成单元，其含量为5-20重量％，(c)得自丙烯酸脂肪酯的组成单元，其含量为20-40％，以及(d)得自具有多环脂肪族基团的可自由基聚合的化合物的组成单元，其含量为30-60重量％，(B)具有至少一个烯键式不饱和双键的化合物，以及(C)辐射敏感的自由基聚合引发剂，通过使用该引发剂，呈未固化状态的、干膜厚度为70μm的涂膜在365nm具有不低于10％的辐射透射率，在405nm具有不低于60％的辐射透射率，其中，以100重量份组分(A)计，所述辐射敏感的自由基聚合引发剂(C)的含量为20-40重量份，并且所述光敏树脂膜的干膜厚度不低于50μm。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||