发明名称 |
真空室中样品形成和微量分析的方法和装置 |
摘要 |
公开了在真空室中形成目标物样品、从该目标物提取样品和对该样品进行微量分析的方法和设备,该微量分析包括表面分析和电子透明度分析。在一些实施例中,提供了一种用于对提取的样品的目标横截面成像的方法。可选择地,在该真空室内反复薄化和成像该样品。在一些实施例中,该样品位于包括可选择的孔的样品支撑件上。可选择地,该样品位于该样品支撑件的表面上以使得该目标横截面基本上平行于样品支撑件表面。一旦安装在样品支撑件上,就或在该真空室中对该样品进行微量分析,或将其装载到装载站上。在一些实施例中,通过基本上垂直地入射到目标横截面的电子束来对该样品成像。 |
申请公布号 |
CN1766592A |
申请公布日期 |
2006.05.03 |
申请号 |
CN200510113299.2 |
申请日期 |
2005.07.14 |
申请人 |
应用材料以色列公司 |
发明人 |
K·艾坦;S·德罗 |
分类号 |
G01N23/04(2006.01);H01L21/66(2006.01) |
主分类号 |
G01N23/04(2006.01) |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
张政权 |
主权项 |
1.一种样品形成和成像的方法,包括:a)将目标物放置在真空室中;b)从所述目标物形成样品;和c)对所述样品成像,其中电子束的至少一部分横穿所述样品的至少一部分,其中在所述真空室中完成所述形成和成像。 |
地址 |
以色列瑞哈佛特市 |