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发明名称 Method of preventing particles in an etching chamber
摘要
申请公布号 KR100575856(B1) 申请公布日期 2006.05.03
申请号 KR19990047213 申请日期 1999.10.28
申请人 发明人
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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