| 发明名称 | 使用红外辐射均匀加热玻璃和/或玻璃陶瓷的方法和装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及采用红外辐射均匀加热半透明和/或透明玻璃和/或玻璃陶瓷的方法，以此在20-3000℃，尤其是20-1705℃的温度范围内对玻璃和/或玻璃陶瓷进行热处理。本发明的特征在于加热是通过直接作用到玻璃和/或玻璃陶瓷上的红外辐射部分和间接作用到玻璃和/或玻璃陶瓷上的红外辐射部分进行的。间接作用到玻璃和/或玻璃陶瓷上的辐射部分总计高于总辐射效率的50％。 | ||
| 申请公布号 | CN1254448C | 申请公布日期 | 2006.05.03 |
| 申请号 | CN00805296.4 | 申请日期 | 2000.03.22 |
| 申请人 | 肖特股份公司 | 发明人 | 乌尔里克·福塞林汉姆;豪克·埃斯曼;马库斯·加希－安德烈斯;伯恩德·霍普;马赛厄斯·布林克曼;诺伯特·格罗伊利希·希克曼 |
| 分类号 | C03B29/02(2006.01);C03B29/00(2006.01);C03B29/08(2006.01);C03B32/00(2006.01);C03B23/035(2006.01);C03B37/029(2006.01);C03B5/235(2006.01);C03B5/42(2006.01);C03B5/033(2006.01) | 主分类号 | C03B29/02(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 范明娥 |
| 主权项 | 1.借助于红外辐射均匀加热半透明和/或透明玻璃和/或玻璃陶瓷的方法，由此在20-3000℃的温度范围内对玻璃和/或玻璃陶瓷进行热处理，其特征在于：通过直接作用到玻璃和/或玻璃陶瓷上的红外辐射部分以及间接作用到玻璃和/或玻璃陶瓷上的红外辐射部分进行加热，其中，间接作用到玻璃和/或玻璃陶瓷上的辐射部分高于总辐射效率的50％并且：红外辐射是红外辐射源的短波红外辐射，其中红外辐射源的着色温度高于1500K。 | ||
| 地址 | 德国美因茨 | ||