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发明名称
自我组装之金属与碳交替之奈米层状薄膜及其制造方法
摘要
本发明系关于一种利用单一金属沈积出金属与碳交替层状薄膜之方法,其系利用真空反应式磁控溅镀技术,以单一金属靶材为金属源,配合连续通入之反应气体中的碳氢化合物作为碳源,沈积出金属与碳的交替层状结构。本发明不需提供基板热源及偏压,即可使奈米级奈米富碳层与奈米级奈米富金属层以具有可控制之周期性自我组装交替层叠。
申请公布号
TW200613572
申请公布日期
2006.05.01
申请号
TW093131593
申请日期
2004.10.18
申请人
国立成功大学
发明人
丁志明;吴宛玉
分类号
C23C14/00
主分类号
C23C14/00
代理机构
代理人
郭雨岚;林发立
主权项
地址
台南市东区大学路1号
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