发明名称 化学气相沈积设备及其炉管承载结构
摘要 一种化学气相沈积设备,包括外炉管、内炉管以及一炉管承载结构。炉管承载结构具有一承载座及承载环,承载座具有一筒状本体,其中外炉管系置于筒状本体之一端;承载环以可分离之方式设置于筒状本体内侧,而承载环具有一端面及一内环面,端面与内环面之夹角为锐角。
申请公布号 TWI254084 申请公布日期 2006.05.01
申请号 TW093126044 申请日期 2004.08.30
申请人 华邦电子股份有限公司 发明人 陈延寿;苏益群;赖政廷
分类号 C23C16/00 主分类号 C23C16/00
代理机构 代理人 洪澄文 台北市大安区信义路4段279号3楼;颜锦顺 台北市大安区信义路4段279号3楼
主权项 1.一种炉管承载结构,包括: 一承载座,具有一筒状本体,其中该筒状本体之一 端用于承接一外炉管;以及 一承载环,以可分离之方式设置于该筒状本体内侧 ,其中该承载环具有一承载部及一端面,该承载部 由该承载环之一内环面凸出,用于承接一内炉管, 而该端面由该内环面至该承载环之一外环面渐进 倾斜。 2.如申请专利范围第1项所述之炉管承载结构,其中 该承载部具有一上表面,该上表面与该内环面垂直 。 3.如申请专利范围第1项所述之炉管承载结构,其中 该内环面与该端面之夹角介于25至85之间。 4.如申请专利范围第1项所述之炉管承载结构,其中 该承载座及该承载环之材质为不锈钢。 5.一种炉管承载结构,包括: 一承载座,具有一筒状本体,其中该筒状本体之一 端用于承接一外炉管;以及 一承载环,以可分离之方式设置于该筒状本体内侧 ,其中该承载环具有一端面及一内环面,该端面与 该内环面之夹角为锐角。 6.如申请专利范围第5项所述之炉管承载结构,其中 该承载环具有一承载部,该承载部由该内环面凸出 ,用于承接一内炉管。 7.如申请专利范围第5项所述之炉管承载结构,其中 该端面为一环状内凹弧面。 8.如申请专利范围第5项所述之炉管承载结构,其中 该内环面与该端面之夹角介于25至85之间。 9.如申请专利范围第8项所述之炉管承载结构,其中 该端面与该内环面交界之水平高度高于该端面与 该承载环之一外环面交界之水平高度。 10.如申请专利范围第9项所述之炉管承载结构,其 中该端面为一环状外凸弧面。 11.如申请专利范围第5项所述之炉管承载结构,其 中该承载座及该承载环之材质为不锈钢。 12.一种化学气相沈积设备,包括: 一外炉管; 一内炉管;以及 一炉管承载结构,包括: 一承载座,具有一筒状本体,其中该外炉管该置于 该筒状本体之一端;以及 一承载环,以可分离之方式设置于该筒状本体内侧 ,其中该承载环具有一端面及一内环面,该端面与 该内环面之夹角为锐角。 13.如申请专利范围第12项所述之化学气相沈积设 备,其中该承载环具有一承载部,该承载部由该内 环面凸出,用于承接一内炉管。 14.如申请专利范围第13项所述之化学气相沈积设 备,其中该承载部具有一上表面,该上表面与该内 环面垂直。 15.如申请专利范围第12项所述之化学气相沈积设 备,其中该端面为一由该内环面至该承载环之一外 环面渐进倾斜之锥面。 16.如申请专利范围第12项所述之化学气相沈积设 备,其中该炉管承载结构中之该承载环之该端面为 一环状内凹弧面。 17.如申请专利范围第12项所述之化学气相沈积设 备,其中该内环面与该端面之夹角介于25至85之间 。 18.如申请专利范围第17项所述之化学气相沈积设 备,其中该端面与该内环面交界之水平高度高于该 端面与该承载环之一外环面交界之水平高度。 19.如申请专利范围第18项所述之化学气相沈积设 备,其中该端面为一环状外凸弧面。 20.如申请专利范围第12项所述之化学气相沈积设 备,其中该炉管承载结构中之该承载座及该承载环 之材质为不锈钢。 图式简单说明: 第1A图为习知化学气相沈积设备之部分剖面图。 第1B图为第1A图中区域a之放大示意图。 第2图为本发明化学气相沈积设备之部分剖面图。 第3A图为第2图中承载环之俯视图。 第3B图为第2图中承载环之侧视图。 第4A-4C图显示不同实施例中承载环之部分剖面图 。
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