发明名称 光学异方性膜
摘要 本发明系揭述一种光学异方性膜,其包括至少一层异方性结晶层(其包含一种其分子包括芳族环及形成晶格之物质)及至少一层透明层。相对折射率n满足2n2<n02+ne2的条件,其中n0及ne分别系寻常射线及非常射线对结晶层的折射率。
申请公布号 TWI254137 申请公布日期 2006.05.01
申请号 TW092121290 申请日期 2003.08.04
申请人 日东电工股份有限公司 发明人 麦可 柏克斯多;佩佛 莱乐瑞夫
分类号 G02B1/08 主分类号 G02B1/08
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种光学异方性膜,其包含一层或多层异方性结 晶层,该异方性结晶层代表分子中包括芳族环及形 成沿着其中一个光轴具有3.40.3之平面间距的晶 格之物质;及一层或多层透明层; 其中该透明层的每一个折射率n可以满足2n2<n02+ne2 的条件,其中n0及ne分别系寻常射线及非常射线对 结晶膜的折射率。 2.根据申请专利范围第1项之光学异方性膜,其中将 透明层当作基板。 3.根据申请专利范围第2项之光学异方性膜,其中使 在结晶层面上的基板表面成为亲水性。 4.根据申请专利范围第2项之光学异方性膜,其中在 结晶层面上的基板表面具有凹凸起伏的轮廓。 5.根据申请专利范围第2项之光学异方性膜,其中在 结晶层面上的基板表面具有纹理。 6.根据申请专利范围第2项之光学异方性膜,其中在 基板与结晶层之间形成额外的中间层。 7.根据申请专利范围第6项之光学异方性膜,其中面 向结晶层的中间层表面具有亲水性。 8.根据申请专利范围第6项之光学异方性膜,其中面 向结晶层的中间层表面具有凹凸起伏的轮廓。 9.根据申请专利范围第6项之光学异方性膜,其中面 向结晶层的中间层表面具有纹理。 10.根据申请专利范围第2至9项中任一项之光学异 方性膜,其中将基板表面以额外的抗反射或抗闪烁 涂层覆盖。 11.根据申请专利范围第2至9项中任一项之光学异 方性膜,其中透明层具有双折射。 12.根据申请专利范围第1至9项中任一项之光学异 方性膜,其中有额外的黏着性透明层。 13.根据申请专利范围第1项之光学异方性膜,其中 将透明层当作黏着层,且该光学异方性膜另包含基 板而当作镜状或扩散反射板。 14.根据申请专利范围第13项之光学异方性膜,另包 含在基板与结晶层之间的平面层。 15.根据申请专利范围第1项之光学异方性膜,另包 含当作镜状或扩散半反射板之基板。 16.根据申请专利范围第15项之光学异方性膜,另包 含在基板与结晶层之间的平面层。 17.根据申请专利范围第2项之光学异方性膜,另包 含当作反射偏光板之基板。 18.根据申请专利范围第1或17项之光学异方性膜,其 中结晶层物质包括杂环。 19.根据申请专利范围第1项之光学异方性膜,其中 结晶层包含一种或多种有机物质,其化学式包含 一种或多种保证在极性溶剂中的溶解度的离化基, 以获得感胶离子液晶相, 及/或 一种或多种保证在非极性溶剂中的溶解度的非离 化基,以获得感胶离子液晶相。 20.根据申请专利范围第12项之光学异方性膜,另包 含一层或多层额外的黏着层。 21.根据申请专利范围第20项之光学异方性膜,另包 含在至少一层黏着层上形成保护涂层。 22.根据申请专利范围第1项之光学异方性膜,其中 结晶层代表E型偏光板。 23.根据申请专利范围第22项之光学异方性膜,其中 结晶层同时代表偏光板及相位差层。 24.根据申请专利范围第2至9项中任一项之光学异 方性膜,其中基板系由聚合物所制成的。 25.根据申请专利范围第2至9项中任一项之光学异 方性膜,其中基板系由玻璃所制成的。 图式简单说明: 图1系含有在基板上沿着黏着层及保护层的结晶膜 的光学异方性膜之截面图。 图2系包括抗反射层的光学异方性膜之截面图。 图3系包括反射层的光学异方性膜之截面图。 图4系包括作为基板的扩散或镜状反射板的光学异 方性膜之截面图。
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