| 发明名称 | 光掩模坯料、光掩模及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明在光学透明的基板11的一侧主表面上设置遮光性膜12，上述遮光性膜12由第1遮光性膜13和第2遮光性膜14依次叠层而构成。第1遮光性膜13为在氟系(F类)干式蚀刻中不被实质蚀刻的膜，是主成分为铬的氧化物、氮化物、氧氮化物等的膜。而且，第2遮光性膜14是以可被F类干式蚀刻的含硅化合物为主成分的、硅或硅和过渡金属的氧化物、氮化物或氧氮化物等的膜。 | ||
| 申请公布号 | CN1763632A | 申请公布日期 | 2006.04.26 |
| 申请号 | CN200510112619.2 | 申请日期 | 2005.10.11 |
| 申请人 | 信越化学工业株式会社;凸版印刷株式会社 | 发明人 | 吉川博树;稻月判臣;木名濑良纪;冈崎智;原口崇;岩片政秀;福岛祐一 |
| 分类号 | G03F1/08(2006.01);G03F1/14(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F1/08(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 | 代理人 | 杨宏军 |
| 主权项 | 1.一种光掩模坯料，在相对于曝光光为透明的基板上具备第1遮光性膜和第2遮光性膜依次叠层而成的遮光性膜，所述第1遮光性膜包含以不被氟系干式蚀刻实质上蚀刻的铬(Cr)为主成分的层，所述第2遮光性膜包含以可实施氟系干式蚀刻的含硅化合物为主成分的层。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||