| 发明名称 |
PROCESS SEQUENCE FOR PHOTORESIST STRIPPING AND/OR CLEANING OF PHOTOMASKS FOR INTEGRATED CIRCUIT MANUFACTURING |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
EP1649503(A2) |
申请公布日期 |
2006.04.26 |
| 申请号 |
EP20040779750 |
申请日期 |
2004.08.02 |
| 申请人 |
AKRION LLC |
发明人 |
KASHKOUSH, ISMAIL;NOVAK, RICHARD;CHEN, GIM-SYANG |
| 分类号 |
B08B3/12;B08B7/00;B08B7/02;C23F1/00;G03F;G03F7/42;H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
B08B3/12 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
