| 发明名称 | 光刻设备及器件制造方法 | ||
| 摘要 | 一种利用单独可控单元阵列的光刻设备，其中，把由所述单独可控单元阵列图案化的辐射束强度的一部分转移到图像传感器，用于检验产生的图像的质量。 | ||
| 申请公布号 | CN1763635A | 申请公布日期 | 2006.04.26 |
| 申请号 | CN200510113400.4 | 申请日期 | 2005.10.17 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | K·Z·特鲁斯特;A·J·布里克 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G02B26/00(2006.01);G02B27/28(2006.01);G03F7/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 杨凯;张志醒 |
| 主权项 | 1.一种光刻设备，它包括：照射系统，它调整辐射束；单独可控单元阵列，它使所述辐射束图案化；辐射束分离器，它将所述具有图案的辐射束的强度划分为至少第一和第二部分，所述各部分各自具有所述图案的基本上完整的截面；投射系统，它将所述所述具有图案的辐射束的所述第一部分投射到衬底的目标部分上；以及图像传感器，它检查所述所述具有图案的辐射束的所述第二部分的截面的至少一部分。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||