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发明名称 CLEANING METHOD FOR THE DIFFUSION FURNACE OF THE SEMI-CONDUCTOR FABRICATING FACILITY AND THE ASSIST MEMBER FOR THE SAME
摘要
申请公布号 KR20060034166(A) 申请公布日期 2006.04.21
申请号 KR20040083321 申请日期 2004.10.18
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 KIM, JUNG NAM
分类号 H01L21/22;H01L21/02 主分类号 H01L21/22
代理机构 代理人
主权项
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