Verfahren zur Herstellung von Submikronstrukturen

摘要

Verfahren zur Herstellung von Submikronstrukturen unter Nutzung einer Schattenmaske, wobei ein Materialeintrag und/oder Energieeintrag durch die Öffnungen der Schattenmaske erfolgt, mit den Schritten: Aufbringen eines als Schattenmaske dienenden Films aus Maskierungsmaterial auf das Substrat, Erzeugen von Rissen in diesem Film, die bis auf das Substrat reichen, Ablösen von den Rissen eng benachbarten Randbereichen des Films unter Freilegung des Substrats und Einbringen des Materials oder der Energie durch die Rissöffnungen auf das freiliegende Substrat auch unter die abgelösten Randbereiche des Schattenmaskenfilms.