一种透明疏水的氮化硼薄膜制备方法

摘要

本发明属材料的表面物理化学领域。现有无机材料疏水性的研究，主要是用非晶碳薄膜，但难实现良好的透明性，且化学稳定性不如氮化硼薄膜。一种透明疏水的氮化硼薄膜制备方法，其特征在于，包括以下步骤：用常规气相沉积方法在作为基底的固体表面上沉积一层氮化硼薄膜，厚度在0.2微米到2.5微米的范围；然后将真空室中充入氩气，并控制工作气压在0.2～4.0Pa，施加射频电磁场，射频功率在50～200W，利用气体分子电离所产生的离子的对薄膜表面进行刻蚀，刻蚀时间控制在5～30分钟。为了提高刻蚀效果，可充入体积百分比为15％～80％的含氟气体。本发明的氮化硼薄膜表面不仅具有良好的疏水性能，并保持良好的透明性，适用于在需要透明、防雾、防水及易清洁的固体表面处理。

主权项

1、一种透明疏水的氮化硼薄膜制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 1)、用常规气相沉积方法在作为基底的固体表面上沉积一层氮化硼薄 膜，厚度在0.2微米到2.5微米的范围； 2)然后将真空室中充入氩气，并控制工作气压在0.2～4.0Pa，施加射频 电磁场，射频功率在50～200W，利用气体分子电离所产生的离子的对薄膜 表面进行刻蚀，刻蚀时间控制在5～30分钟。