| 发明名称 | 极紫外光刻精密磁悬浮工件台 | ||
| 摘要 | 一种极紫外光刻精密磁悬浮工件台。它由微定位平台组件[117]、粗定位平台组件[125]、基座组件[132]组成；基座组件[132]位于最底部，粗定位平台组件[125]位于基座组件[132]正上方，可以相对基座沿Y向移动；基座[101]通过磁悬浮导轨[102]支撑粗定位平台组件[125]。微定位平台组件[117]位于粗定位平台组件[125]正上方，由粗定位平台组件[125]通过磁悬浮导轨[112]支撑，相对粗定位平台组件[125]沿X方向移动；粗定位平台组件[125]的线缆台[107]、平衡块[108]、电磁铁[118]，可有效降低工件台的定位误差，提高其刚度。本发明可实现XY长行程线性运动及X、Y、Z、θ度好、能耗低、精度高，适用于极紫外光刻机和其他真空作业环境的精密加工和检测作业。 | ||
| 申请公布号 | CN1760760A | 申请公布日期 | 2006.04.19 |
| 申请号 | CN200410009664.0 | 申请日期 | 2004.10.14 |
| 申请人 | 中国科学院电工研究所 | 发明人 | 朱涛;李艳秋 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人 | 关玲;刘秀娟 |
| 主权项 | 1、一种极紫外光刻精密磁悬浮工件台，其特征在于：它由微定位平台组件[117]、粗定位平台组件[125]、基座组件[132]组成；基座组件[132]位于最底部，粗定位平台组件[125]位于基座组件[132]正上方，可以相对基座沿Y向移动，基座[101]通过磁悬浮导轨[102]支撑粗定位平台组件[125]；微定位平台组件[117]位于粗定位平台组件[125]正上方，由粗定位平台组件[125]通过磁悬浮导轨[112]支撑，相对粗定位平台组件[125]沿X方向移动。 | ||
| 地址 | 100080北京市海淀区中关村北二条6号 | ||