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发明名称 METHOD FOR FORMING THE ISOLATION LAYER
摘要
申请公布号 KR20060033498(A) 申请公布日期 2006.04.19
申请号 KR20040082648 申请日期 2004.10.15
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 YOON, HYO GUN
分类号 H01L21/762 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
主权项
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