发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR TUNING PHOTORESIST THICKNESS IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS
摘要
申请公布号 KR20060031921(A) 申请公布日期 2006.04.14
申请号 KR20040080902 申请日期 2004.10.11
申请人 DONGBU ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 MOON, HONG RAE
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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