发明名称 Anordnung zur Reinigung von toxischen Gasen aus Produktionsprozessen
摘要 Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Reinigung von toxischen Gasen aus Produktionsprozessen durch thermische Umsetzung in einer Reaktorkammer und nachfolgende Behandlung der Reaktionsprodukte mit einem Sorptionsmittel in einer Wascheinrichtung zum Binden wasserlöslicher Reaktionsprodukte und zum Herausspülen fester Reaktionsprodukte. Durch die Erfindung soll eine höchst effektive Reinigung bei hohem Gasdurchsatz erreicht und gleichzeitig eine sehr wirksame Kühlung der Reaktionskammer ermöglicht werden. Erreicht wird das dadurch, dass die Reaktorkammer (1) aus einer Außen- und einer Innenwand (2, 3) besteht, wobei die Innenwand (3) sich in einem vorgegebenen Winkel trichterförmig nach unten verjüngt, dass auf der Reaktorkammer (1), diese nach oben verschließend, eine Einrichtung zur thermischen Behandlung der toxischen Gase angeordnet ist, dass die sich nach unten verjüngende Innenwand (3) der Reaktorkammer (1) auf der Innenseite einen gleichmäßig nach unten fließenden Wasserfilm (4) aufweist, wobei die Innenwand der Reaktorkammer (1) außen durch einen Wassermantel umgeben ist, und dass am unteren Ende der sich verjüngenden Innenwand (3) ein Abgasauslass (11) und ein Anschluss (12) für einen Wasserkreislauf angeordnet ist.
申请公布号 DE102004047440(A1) 申请公布日期 2006.04.06
申请号 DE200410047440 申请日期 2004.09.28
申请人 CENTROTHERM CLEAN SOLUTIONS GMBH & CO. KG 发明人 HARTUNG, ROBERT MICHAEL
分类号 B01D53/18 主分类号 B01D53/18
代理机构 代理人
主权项
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