| 发明名称 | 掩模和其制造方法，以及电发光装置的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的是制造一种高精细掩模。在基板(10)上形成有多个穿孔(20)并且它们各自的第1开口(22)和比第1开口(22)大的第2开口(24)之间相互连通而形成的多个穿孔(20)。在基板(10)的第1面(12)上形成对应于第1开口(22)的耐蚀刻膜(30)，在基板(10)的第1面(12)的相反面第2面(14)上，让上述多个穿孔的形成区域露出以使2个以上的上述第2开口的形成区域能连续露出。在各自的穿孔(20)的形成区域里，形成小穿孔(36)。从基板(10)的第1及第2面的两方，能进行具有结晶表面方向依赖性的蚀刻。 | ||
| 申请公布号 | CN1249521C | 申请公布日期 | 2006.04.05 |
| 申请号 | CN03123132.2 | 申请日期 | 2003.04.17 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 四谷真一;梅津一成;泽木大辅 |
| 分类号 | G03F1/16(2006.01);G03F7/00(2006.01);H05B33/00(2006.01) | 主分类号 | G03F1/16(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘宗杰;王忠忠 |
| 主权项 | 1.一种掩模制造方法，包含以下步骤：在基板上形成有多个穿孔并且它们各自的第1开口和比上述第1开口大的第2开口之间相互连通，上述制法还包含以下步骤：(a)上述基板的第1面上形成对应于上述第1开口的耐蚀刻膜，在上述基板的上述第1面的相反面第2面上，让上述多个穿孔的形成区域露出以使2个以上的上述第2开口的形成区域能连续露出，(b)在各自的上述穿孔的形成区域里，形成比其各自的上述穿孔小的穿孔；以及(c)从上述基板的上述第1及第2面的两方来进行具有结晶表面方向依赖性的蚀刻。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||