| 发明名称 | 基板处理系统 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种在被处理基板的表面上涂布形成处理液的膜，与曝光装置连动，在基板上形成规定图案的基板处理系统，能够在各个基板上均匀地涂布处理液，还能够提高与曝光装置连动时的基板处理生产率。在被处理基板的表面上涂布形成处理液的膜，与曝光装置连动，在基板上形成规定图案的基板处理系统(100)中，具有：涂布膜形成装置，该装置具有分别载置被处理基板的第一台面(50)和第二台面(59)，以及在分别载置在上述第一台面(50)和第二台面(59)上的被处理基板表面上涂布处理液，形成膜的处理液涂布装置；基板输送装置(42a)，(42b)，相对于多个曝光装置(4a)，(4b)，而对通过上述涂布膜形成装置形成有膜的被处理基板进行输送。 | ||
| 申请公布号 | CN1755526A | 申请公布日期 | 2006.04.05 |
| 申请号 | CN200510107965.1 | 申请日期 | 2005.09.30 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 归山武郎;坂井光广;梶原拓伸 |
| 分类号 | G03F7/16(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G03F7/16(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种基板处理系统，其在被处理基板的表面上涂布形成处理液的膜，与曝光装置连动，在基板上形成规定图案，具有：涂布膜形成装置，其具有：分别载置被处理基板的第一台面和第二台面；和在分别载置在所述第一台面和第二台面上的被处理基板的表面上涂布处理液，形成膜的处理液涂布装置；基板输送装置，相对于多个曝光装置，而对通过所述涂布膜形成装置形成有膜的被处理基板进行输送。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||