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发明名称
METHOD FOR REPAIR OF DEFECT ON MASK FOR EUVL
摘要
申请公布号
KR20060029040(A)
申请公布日期
2006.04.04
申请号
KR20040078014
申请日期
2004.09.30
申请人
HYNIX SEMICONDUCTOR INC.
发明人
LEE, HONG GOO
分类号
H01L21/027;H01L21/033
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
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