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经营范围
发明名称
用于微蚀印投影曝光设备的照明系统
摘要
用于微蚀印投影曝光设备(PEA)的照明系统具有第一偏振操控器(PM1、PM21、PM31、PM41、PM51、PM611、PM621、PM111)、第二偏振操控器(PM2、PM22、PM32、PM42、PM52、PM612、PM622、PM112)以及位于当中的至少一光学元件(L1、L2、18、30)。偏振操控器确保偏振操控器之间的光线(R)的电场向量方向乃随着时间做变化,而偏振操控器外的偏振状态则是固定的。此避免高能光线在安排于两偏振操控器之间的光学元件中感应出双折射。
申请公布号
TW200611063
申请公布日期
2006.04.01
申请号
TW094123614
申请日期
2005.07.12
申请人
卡尔蔡司SMT股份公司
发明人
达米安 菲欧卡;拉尔夫 林德纳;拉尔夫 夏恩韦伯
分类号
G03B27/72;G03B27/54;G03F7/20
主分类号
G03B27/72
代理机构
代理人
林镒珠
主权项
地址
德国
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