绝缘膜形成用组成物及其制造方法,暨二氧化矽系绝缘膜及其形成方法

摘要

本发明之绝缘膜形成用组成物，系含有：在(B)成分存在下，将(A)成分施行水解缩合而所获得的水解缩合物；及有机溶剂；其中，该(B)成分系主链为由–(Si–CH2)x–所示构造，且具有下述一般式(4)所示构造、下述一般式(5)所示构造、下述一般式(6)所示构造及下述一般式(7)所示构造的聚碳矽烷；该(A)成分系从下述一般式(1)～(3)所示化合物组群中至少选择1种之矽烷化合物。094115013-p01.bmp094115013-p02.bmp094115013-p03.bmp(式中，R^8系指选择自氢原子、卤原子、羟基、烷氧基、醯氧基所构成组群中的基。)094115013-p04.bmp(式中，R^9及R^10系指相同或互异，且选择自氢原子、卤原子、羟基、烷氧基、醯氧基所构成组群中的基。)094115013-p05.bmp(式中、R^11～R^13系指相同或互异，且选择自氢原子、卤原子、羟基、烷氧基、醯氧基所构成组群中的基。)