发明名称 POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING ALICYCLIC DISSOLUTION INHIBITORS
摘要
申请公布号 KR100566936(B1) 申请公布日期 2006.03.31
申请号 KR20010038100 申请日期 2001.06.29
申请人 发明人
分类号 C07C69/00;C07C69/757;G03F7/004;G03F7/039 主分类号 C07C69/00
代理机构 代理人
主权项
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