发明名称 |
在宝石或工业钻石上形成标记 |
摘要 |
为了在钻石(7)的顶切面(7a)上形成微小的标记,保持器或宝石夹(11)与钻石(7)一起旋转,光致抗蚀剂施加在该顶切面(7a)上,该抗蚀剂通过加热该宝石夹(11)的基部从而进行烘焙,并且宝石夹(11)转移到设备的工作台(30)以便使抗蚀剂暴光。抗蚀剂通过暴光辐射被暴光成具有图案,该图案是掩膜(35)经物镜(38)形成的缩小图象。暴光辐射通过辐射源(31)进行投射,并且在350—450nm之间。为了定位、定向和聚焦该图象,辐射源(31)配置成投射500—550nm的光,其不影响抗蚀剂并在顶切面(7a)上形成构图图象。该构图图象经物镜(38)和光束分离器(36)在观察面(44)处观察。在暴光之后,抗蚀剂显影并且该顶切面(7a)的暴光区域随后通过等离子进行磨铣。 |
申请公布号 |
CN1247387C |
申请公布日期 |
2006.03.29 |
申请号 |
CN02808317.2 |
申请日期 |
2002.02.18 |
申请人 |
杰桑企业 |
发明人 |
J·G·C·史密斯;K·B·盖伊 |
分类号 |
B44C1/00(2006.01);B44C1/22(2006.01);C04B41/00(2006.01);B28D5/00(2006.01);B23K26/03(2006.01);C04B41/53(2006.01);B23K26/06(2006.01) |
主分类号 |
B44C1/00(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
崔幼平;黄力行 |
主权项 |
1.一种在宝石或工业钻石上形成标记的方法,其包括:使曝光辐射投射到该宝石或钻石上,以在其上形成曝光图象,该方法还包括通过将不同于该曝光辐射的构图辐射投射到该宝石或钻石上以便在该宝石或钻石上形成该构图图象,从而对该曝光辐射进行定位、定向、和/或聚焦,在形成或将要形成一标记的方面中该构图辐射不影响该宝石或钻石,该构图辐射在该宝石或钻石上在光路径外侧被感测,在该构图辐射到达该宝石或钻石之前该构图辐射跟随该光路径,并且在该宝石或钻石上调节该构图图象的定位、和/或定向、和/或聚焦,由此调节该曝光图象的定位、和/或定向、和/或聚焦。 |
地址 |
列支敦士登瓦杜兹 |