| 主权项 |
1.一种橡胶基材制造方法,其系取用一硫化后之橡 胶层及一具热塑性特性之底层上下对应,并将两者 于预设纹路之区域予以面接合而形成一橡胶基材, 再以一热压装置对该橡胶基材进行热压作业,使得 该底层可产生塑性变形之形成热压纹路,该橡胶层 受该底层之拉动牵引,可在其表面形成纹路者。 2.依据申请专利范围第1项所述之一种橡胶基材制 造方法,其中该橡胶层厚度为介于0.3mm至1.2mm之间 。 3.依据申请专利范围第1项所述之一种橡胶基材制 造方法,其中该热压装置系以面对该橡胶层方向进 行热压作业,使该橡胶层产生凹陷纹路者。 4.依据申请专利范围第1项所述之一种橡胶基材制 造方法,其中该热压装置系以面对该底层方向进行 热压作业,使该橡胶层产生凸出纹路者。 5.依据申请专利范围第1项所述之一种橡胶基材制 造方法,该橡胶层与该底层全面接合者。 6.依据申请专利范围第1项所述之一种橡胶基材制 造方法,其中该底层系由PU所制成。 7.依据申请专利范围第1项所述之一种橡胶基材制 造方法,其中该底层系为EVA所制成。 8.一种橡胶基材,包含有一硫化后之橡胶层及一底 层,该橡胶层及该底层系相互贴合呈一体之态样, 该底层系由具热塑性之材料所制成,该橡胶基材具 有一纹路成型区,于该纹路成型区之底层受热压变 形,另该纹路成型区之橡胶层受拉扯变形。 9.依据申请专利范围第8项所述之一种橡胶基材,其 中该底层系由PU所制成。 10.依据申请专利范围第8项所述之一种橡胶基材, 其中该底层系为EVA所制成。 11.依据申请专利范围第8项所述之一种橡胶基材, 其中在应用上该橡胶层为表面层,且厚度为介于0.3 mm至1.2mm之间。 12.依据申请专利范围第11项所述之一种橡胶基材, 其中该橡胶层产生凹陷纹路者。 13.依据申请专利范围第11项所述之一种橡胶基材, 其中该橡胶层产生凸出纹路者。 14.一种握把带,系呈一长形带体,以螺旋状缠绕于 一运动器材握把,其包含有一硫化后之橡胶层及一 底层,该底层系由热塑性材料所制成,该橡胶层及 该底层系相互贴合而呈一体之态样,该橡胶基材具 有一纹路成型区,于该纹路成型区之底层受热压变 形,另该纹路成型区之橡胶层受拉扯变形,且该橡 胶层为握持层。 15.依据申请专利范围第14项所述之一种握把带,其 中该底层系由PU所制成。 16.依据申请专利范围第14项所述之一种握把带,其 中该底层系为EVA所制成。 17.依据申请专利范围第14项所述之一种橡胶基材, 其中该橡胶层产生凹陷纹路者。 18.依据申请专利范围第14项所述之一种橡胶基材, 其中该橡胶层产生凸出纹路者。 19.依据申请专利范围第14项所述之一种橡胶基材, 其中在应用上该橡胶层为表面层,且厚度为介于0.3 mm至1.2mm之间。 20.一种握把套,其系由一片体所构成,以该片体之 二长侧边结合形成呈套管态样者;其中该片体包含 有一硫化后之橡胶层及一底层,该底层系由热塑性 材料所制成,该橡胶层及该底层系相互贴合而呈一 体之态样,该橡胶基材具有一纹路成型区,于该纹 路成型区之底层受热压变形,另该纹路成型区之橡 胶层受拉扯变形,且该橡胶层为握持层。 21.依据申请专利范围第20项所述之一种橡胶基材 制造方法,其中该底层系由PU所制成。 22.依据申请专利范围第20项所述之一种橡胶基材 制造方法,其中该底层系为EVA所制成。 23.依据申请专利范围第20项所述之一种橡胶基材, 其中该橡胶层产生凹陷纹路者。 24.依据申请专利范围第20项所述之一种橡胶基材, 其中该橡胶层产生凸出纹路者。 25.依据申请专利范围第20项所述之一种橡胶基材, 其中在应用上该橡胶层为表面层,且厚度为介于0.3 mm至1.2mm之间。 图式简单说明: 第一图系本发明之橡胶基材之制造流程,系以各构 件之局部剖视图显示。 第二图系本发明应用于握把带之外观立体图,揭示 构成该握把带之带体。 第三图系本发明应用于握把套之构件立体图,揭示 构成该握把套之片体。 第四图系本发明应用于握把套之外观立体图。 |
