添加有载持聚矽氧烷化合物之两性胺甲酸乙酯树脂的化粧料

摘要

本发明系有关一种新颖化粧料，特别是毛发化粧料、皮肤外用剂，又，目的为开发能应用于化粧料之新颖两性胺甲酸乙酯树脂所形成的被膜剂。达成本发明之方法系特征为，添加载持聚矽氧烷化合物之两性胺甲酸乙酯树脂的化粧料。该构成载持聚矽氧烷之两性胺甲酸乙酯树脂用的两性胺甲酸乙酯树脂较佳为，至少由下列(A)至(D)化合物反应而生成之两性胺甲酸乙酯树脂。(A)聚醇化合物(B)聚异氰酸酯化合物(C)具有羟基、一级胺基及二级胺基中所选出至少一种，与羧基之化合物(D)具有羟基、一级胺基及二级胺基中所选出至少一种，与三级胺基之化合物本发明可充分发挥新颖之载持聚矽氧烷两性胺甲酸乙酯树脂的被膜特性，而得优良化粧料。例如，作为毛发化粧料时可为，特别是具有优良毛发弹性，梳头时无成片剥落的优良之物，作为皮肤化粧料时可为，具有保温及光滑效果，且可赋予肌肤弹性之物。

主权项

1.一种化粧料,其特征为添加有于下述(S)化合物之 存在下,至少由下列(A)至(D)之化合物以(C)/(D)为1/50 至50/1(莫耳比)之比例下反应所生成之载持聚矽氧 烷化合物之两性胺甲酸乙酯树脂者, (A)聚醇化合物 (B)聚异氰酸酯化合物 (C)具有羟基、一级胺基及二级胺基中所选出至少 一种,与羧基之化合物 (D)具有羟基、一级胺基及二级胺基中所选出至少 一种,与三级胺基之化合物 (S)无须介由两性胺甲酸乙酯树脂骨架之共键含有 聚矽氧烷链之聚矽氧烷化合物。 2.如申请专利范围第1项之化粧料,其中,载持聚矽 氧烷化合物之两性胺甲酸乙酯树脂系包含至少使 用下列(A)至(D)及(S)之化合物,于异氰酸酯基过量之 条件下,使(A)、(B)及(C)之化合物反应制造含异氰酸 酯基预聚物的第一步骤,及使该含异氰酸酯基预聚 物与(D)化合物反应之第二步骤,且第一步骤及第二 步骤中至少一方存在(S)化合物,又以(C)/(D)为1/50至 50/1(莫耳比)之比例下反应所生成, (A)聚醇化合物 (B)聚异氰酸酯化合物 (C)具有羟基、一级胺基及二级胺基中所选出至少 一种,与羧基之化合物 (D)具有羟基、一级胺基及二级胺基中所选出至少 一种,与三级胺基之化合物 (S)无须介由两性胺甲酸乙酯树脂骨架之共键含有 聚矽氧烷链之聚矽氧烷化合物。 3.如申请专利范围第1项之化粧料,其中载持聚矽氧 烷化合物之两性胺甲酸乙酯树脂系包含至少使用 下列(A)至(D)及(S)之化合物,于异氰酸酯基过量之条 件下,使(A)、(B)及(D)之化合物反应制造含异氰酸酯 基预聚物的第一步骤,及使该含异氰酸酯基预聚物 与(C)化合物反应之第二步骤,且第一步骤及第二步 骤中至少一方存在(S)化合物,又以(C)/(D)为1/50至50/1 (莫耳比)之比例下反应所生成, (A)聚醇化合物 (B)聚异氰酸酯化合物 (C)具有羟基、一级胺基及二级胺基中所选出至少 一种,与羧基之化合物 (D)具有羟基、一级胺基及二级胺基中所选出至少 一种,与三级胺基之化合物 (S)无须介由两性胺甲酸乙酯树脂骨架之共键含有 聚矽氧烷链之聚矽氧烷化合物。 4.如申请专利范围第1项之化粧料,其中载持聚矽氧 烷化合物之两性胺甲酸乙酯树脂系由存在下记(S) 化合物下,至少使下列(A)至(E)之化合物以(C)/(D)为1/ 50至50/1(莫耳比)之比例下反应而生成载持聚矽氧 烷化合物之两性胺甲酸乙酯树脂, (A)聚醇化合物 (B)聚异氰酸酯化合物 (C)具有羟基、一级胺基及二级胺基中所选出至少 一种,与羧基之化合物 (D)具有羟基、一级胺基及二级胺基中所选出至少 一种,与三级胺基之化合物 (E)具有羟基、一级胺基及二级胺基中所选出至少 一种与下列一般式(1)所示构造单位之化合物 -(C2H4O)p(C3H6O)-q-………(1) (式中,p为1至500之整数,q为0至400之整数) (S)无须介由两性胺甲酸乙酯树脂骨架之共键含有 聚矽氧烷链之聚矽氧烷化合物。 5.如申请专利范围第4项之化粧料,其中,载持聚矽 氧烷化合物之两性胺甲酸乙酯树脂物系包含至少 使用下列(A)至(E)及(S)之化合物,于异氰酸酯基过量 之条件下,使(A)、(B)、(C)及(E)之化合物反应制造含 异氰酸酯基预聚物之第一步骤,及使该含异氰酸酯 基预聚物与(D)化合物反应之第二步骤,且第一步骤 及第二步骤中至少一方存在(S)化合物,又以(C)/(D) 为1/50至50/1(莫耳比)之比例下反应所生成, (A)聚醇化合物 (B)聚异氰酸酯化合物; (C)具有羟基、一级胺基及二级胺基中所选出至少 一种,与羧基之化合物 (D)具有羟基、一级胺基及二级胺基中所选出至少 一种,与三级胺基之化合物 (E)具有羟基、一级胺基及二级胺基中所选出至少 一种与下列一般式(1)所示构造单位之化合物 -(C2H4O)p(C3H6O)q-………(1) (式中,p为1至500之整数,q为0至400之整数) (S)无须介由两性胺甲酸乙酯树脂骨架之共键含有 聚矽氧烷链之聚矽氧烷化合物。 6.如申请专利范围第4项之化粧料,其中,载持聚矽 氧烷化合物之两性胺甲酸乙酯树脂物系包含至少 使用下列(A)至(E)及(S)之化合物,于异氰酸酯基过量 之条件下,使(A)、(B)、(D)及(E)之化合物反应制造含 异氰酸酯基预聚物之第一步骤,及使该含异氰酸酯 基预聚物与(C)化合物之第二步骤,且第一步骤及第 二步骤中至少一方存在(S)化合物,又以(C)/(D)为1/50 至50/1(莫耳比)之比例下反应所生成, (A)聚醇化合物 (B)聚异氰酸酯化合物 (C)具有羟基、一级胺基及二级胺基中所选出至少 一种,与羧基之化合物 (D)具有羟基、一级胺基及二级胺基中所选出至少 一种,与三级胺基之化合物 (E)具有羟基、一级胺基及二级胺基中所选出至少 一种与下列一般式(1)所示构造单位之化合物 -(C2H4O)p(C3H6O)q-………(1) (式中,p为1至500之整数,q为0至400之整数) (S)无须介由两性胺甲酸乙酯树脂骨架之共键含有 聚矽氧烷链之聚矽氧烷化合物。 7.如申请专利范围第1至6项中任何一项之化粧料, 其中,无须介由两性胺甲酸乙酯树脂骨架之共键含 有聚矽氧烷链之聚矽氧烷化合物为由二甲基聚矽 氧烷、聚醚改性聚矽氧烷、环状聚矽氧烷、苯基 改性聚矽氧烷、烷基改性聚矽氧烷及烷氧基改性 聚矽氧烷中所选出至少1种。 8.如申请专利范围第1至6项中任何一项之化粧料, 其中,化粧料为毛发化粧料。 9.如申请专利范围第7项之化粧料,其中,化粧料为 毛发化粧料。 10.如申请专利范围第1至6项中任何一项之化粧料, 其中,化粧料为皮肤外用剂。 11.如申请专利范围第7项之化粧料,其中,化粧料为 皮肤外用剂。