半导体装置之处理液、处理方法及半导体制造装置

摘要

本发明之目的，在于提供一种半导体装置之处理液、处理方法及半导体制造装置，可使从半导体基板的原子溶析少，而且能得到乾净、平坦的半导体表面。本发明之特征在于藉由使用含有醇类或酮类其中至少一种的水溶液，以获得一从半导体表面的溶析少，且乾净、平坦的处理液、处理方法及半导体制造装置。