光阻保护膜形成用材料、及使用其之光阻图型形成方法

摘要

本发明系关于液浸曝光制程中，可同时防止使用水为主的各种浸渍液之渍液曝光中的光阻膜变质及所使用的浸渍液变质，且不会增加处理步骤数下可提高光阻膜的拉伸耐性，使用液浸曝光的高解像性光阻图型之形成成为可能。又，本发明系关于使用至少由可溶于硷的聚合物、交联剂、以及可溶解这些之溶剂作为构成成分之组成物，于所使用的光阻膜表面上形成保护膜。