发明名称 正型光阻组成物、光阻图型之形成方法及离子注入方法
摘要 本发明为提供一种于有机溶剂中溶解有(A)光阻用树脂成份,及(B)酸产生剂成份所得之正型光阻组成物,其中前述(A)成份为含有(A1)具有下述结构单位(a1)、结构单位(a2)与结构单位(a3)之基于酸之作用而增大硷可溶性之光阻用树脂成份。结构单位(a1):下述式(1)所示单位;结构单位(a2):由含有具内酯之单环或多环式基之(α–低级烷基)丙烯酸酯所衍生之单位;结构单位(a3):由含有具极性基之多环的脂环式烃基之(α–低级烷基)丙烯酸酯所衍生之单位。094113136-p01.bmp(式中,R为氢原子或低级烷基,R^11为链状之三级烷基所形成之酸解离性溶解抑制基)。094113136-p01.bmp
申请公布号 TW200609676 申请公布日期 2006.03.16
申请号 TW094113136 申请日期 2005.04.25
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 河野绅一;岩井武;林亮太郎
分类号 G03F7/039;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本