| 发明名称 | 干蚀刻方法及信息记录媒体 | ||
| 摘要 | 一种干蚀刻方法，能够把被加工层加工成微细图案且周缘部有棱角的形状，用这种干蚀刻方法沿相当于蚀刻图案的轮廓的第一掩膜层(20)的周缘部形成向磁性薄膜层(被加工层)(18)的对面侧突出的突部(21)。 | ||
| 申请公布号 | CN1748295A | 申请公布日期 | 2006.03.15 |
| 申请号 | CN200480004017.9 | 申请日期 | 2004.06.11 |
| 申请人 | TDK股份有限公司 | 发明人 | 大川秀一;服部一博;高井充 |
| 分类号 | H01L21/3065(2006.01);G11B5/84(2006.01);H01F41/32(2006.01) | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 高龙鑫;王玉双 |
| 主权项 | 1.一种干蚀刻方法，包括将被加工层上的掩膜层加工成规定的图案形状的掩膜层加工工序；以及用干蚀刻除去所述被加工层的露出部分并加工成所述图案形状的被加工层加工工序；其特征在于，所述掩膜层加工工序沿着相当于所述图案的轮廓的所述掩膜层的周缘部，形成向所述被加工层的对面侧突出的突部。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||