| 发明名称 | 用于互连结构的金属蚀刻方法和通过这种方法获得的金属互连结构 | ||
| 摘要 | 金属互连结构，包括衬底(11)，位于衬底上的介电层(12)，位于介电层上的用于金属蚀刻的停止层(13)，位于停止层上的金属层(15’)，所述金属层根据希望的图案被构图。 | ||
| 申请公布号 | CN1748297A | 申请公布日期 | 2006.03.15 |
| 申请号 | CN200480003589.5 | 申请日期 | 2004.02.03 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | M·布罗伊卡尔特;A·福图恩 |
| 分类号 | H01L21/3213(2006.01);H01L21/768(2006.01) | 主分类号 | H01L21/3213(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王岳;梁永 |
| 主权项 | 1.一种在衬底(11)上制造金属互连结构的消去方法，包括以下步骤：在衬底(11)上淀积(21)介电层(12)；在介电层上淀积(23)停止层(13)，该停止层和介电层相比显示出较低的蚀刻率；在停止层上淀积(29)金属层(15’)；在金属层上淀积第一抗蚀剂层(16)；根据第一希望的图案对第一抗蚀剂层构图(30)；和经由构图的第一抗蚀剂层蚀刻(31)金属层，同时停止于停止层上。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||