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发明名称 METHOD OF MANUFACTURING AN EPITAXIAL LAYER AND METHOD OF MANUFACTURING A THIN LAYER AND A SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME
摘要
申请公布号 KR20060023101(A) 申请公布日期 2006.03.13
申请号 KR20040079971 申请日期 2004.10.07
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 SON, YONG HOON;SHIN, YU GYUN;PARK, JAE YOUNG;LEE, JONG WOOK;YEO, CHA DONG
分类号 H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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