发明名称 一种提高光学膜之双重折射率的方法
摘要 本发明系关于一种提高光学膜之双重折射率的方法,该双重折射率包括正型与负型,且该方法系配合一溶液铸膜制程,在高分子聚合物中添加奈米微粒,以制作一具高双重折射率之光学混成膜,该光学混成膜尤可应用于一液晶显示器之位相补偿装置。本发明之方法包括溶解、刮膜、烘膜、加热延伸等步骤。
申请公布号 TWI251085 申请公布日期 2006.03.11
申请号 TW093115716 申请日期 2004.06.01
申请人 力特光电科技股份有限公司 发明人 李光荣;王丹青;林宏元;王伯萍
分类号 G02B1/04 主分类号 G02B1/04
代理机构 代理人 徐贵新 台北市大安区敦化南路2段98号22楼之1
主权项 1.一种提高光学膜之双重折射率的方法,系配合一 溶液铸膜制程,以制作一具高双重折射率之光学膜 ,包括下列步骤: (1)选择一组互相搭配之高分子聚合物及奈米微粒 并形成一溶液系统; (2)将反应完成之该溶液系统涂布于一基板,使成一 薄膜; (3)烘乾该薄膜; (4)加热该薄膜; (5)拉伸该薄膜,配合不同之拉伸条件以制成具不同 双重折射系数値之光学补偿膜。 2.如申请专利范围第1项所述之一种提高光学膜之 双重折射率的方法,其中,该方法所欲提高之双重 折射率包括正型与负型。 3.如申请专利范围第1项所述之一种提高光学膜之 双重折射率的方法,其中,该溶液系统的形成可运 用下列任一选项:溶剂溶解技术、熔融分散技术。 4.如申请专利范围第1项所述之一种提高光学膜之 双重折射率的方法,其中,于步骤(1)中更可增添一 合适之分散剂,以避免奈米微粒聚结,影响溶液系 统之均匀性。 5.如申请专利范围第1项所述之一种提高光学膜之 双重折射率的方法,其中,于步骤(1)中更可使该奈 米微粒经表面改质以避免奈米微粒聚结,影响溶液 系统之均匀性。 6.如申请专利范围第2项所述之一种提高光学膜之 双重折射率的方法,其中,在负型中,于步骤(1)中所 述之高分子聚合物系本身具有负型双重折射率之 高分子聚合物。 7.如申请专利范围第6项所述之一种提高光学膜之 双重折射率的方法,其中,该具有负型双重折射率 之高分子聚合物系可为下列任一选项:PMMA(聚甲基 丙烯酸甲酯,Polymethyl Methacrylate)、PS(聚苯乙烯,Poly Styrene)。 8.如申请专利范围第6项所述之一种提高光学膜之 双重折射率的方法,其中,在负型中,于步骤(1)中所 述之奈米微粒系本身具有负型双重折射率之奈米 微粒。 9.如申请专利范围第8项所述之一种提高光学膜之 双重折射率的方法,其中,该具有负型双重折射率 之奈米微粒具针状(needle-like)结构。 10.如申请专利范围第8项所述之一种提高光学膜之 双重折射率的方法,其中,该具有负型双重复折射 率之奈米微粒具棒状(rod-like)结构。 11.如申请专利范围第9项所述之一种提高光学膜之 双重折射率的方法,其中,该具有负型双重折射率 之针状奈米微粒系可为下列任一选项:SrCO3(碳酸锶 Strontium Carbonate)、BaCO3(碳酸钡Barium Carbonate)、CaCO3( 碳酸钙Calcium Carbonate)。 12.如申请专利范围第2项所述之一种提高光学膜之 双重折射率的方法,其中,在负型中,于步骤(1)中所 述之溶剂系可为下列任一种:乙酸乙酯(Ethyl Acetate) 、甲苯(Toluene)、四氢喃(THF)。 13.如申请专利范围第2项所述之一种提高光学膜之 双重折射率的方法,其中,在正型中,于步骤(1)中所 述之高分子聚合物系本身具有正型双重折射率之 高分子聚合物。 14.如申请专利范围第13项所述之一种提高光学膜 之双重折射率的方法,其中,该具有正型双重折射 率之高分子聚合物系可为下列任一选项:TAC(三醋 酸纤维,Triactyl Cellulose)、PC(聚碳酸酯,Polycarbonate) 、PVA(聚乙烯醇,Polyvinyl Alcohol)、PES(聚醚,Polyether Sulfone)、PET(聚乙烯基对苯二甲酯,Polyethylene terephthalate)、COP(环烯聚合物,Cyclic Olefin Polymer)、 COC(环烯共聚合物(Cyclic Olefin Copolymer)。 15.如申请专利范围第2项所述之一种提高光学膜之 双重折射率的方法,其中,在正型中,于步骤(1)中所 述之奈米微粒系本身具有正双重折射率之奈米微 粒。 16.如申请专利范围第1项所述之一种提高光学膜之 双重折射率的方法,其中,于步骤(6)所述之拉伸方 式系包括单轴拉伸与双轴拉伸。 图式简单说明: 第1A至第1F图系不同种类之光学膜其折射率示意图 ; 第2A图系习知之高分子聚合物受拉伸作用前之分 子排列示意图; 第2B图系习知之高分子聚合物受拉伸作用后之分 子排列示意图; 第3图系本发明步骤流程图; 第4A图系利用本发明方法所制成之混成膜受拉伸 作用前之分子排列示意图; 第4B图系利用本发明方法所制成之混成膜受拉伸 作用后之分子排列示意图。
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