| 主权项 |
1.一种在基板表面上形成精密光阻穿孔图案之方 法,其系以一种照相片版印刷形成图案法,使用照 相铜版相移光罩形成,该方法包括下列步骤: (1)使用一种正型光阻组成物在该基板表面上形成 一光阻层,该光阻组成物包含: (A)100重量份数之树脂化合物,其可藉由与酸交互作 用而提高在硷性水溶液中之溶解度,且其为一种聚 羟基苯乙烯、以羟基苯乙烯为底质之共聚物、或 由一种以上以羟基苯乙烯为底质之共聚物所构成 的混合物;(B)自1至20重量份数之可藉由照射一种辐 射而产生酸之化合物;(C)自0.1至25重量份数之在分 子中具有至少两个乙烯氧基之化合物,此等乙烯氧 基可与组份(A)反应形成交联;以及(D)自0.01至1重量 份数之有机胺化合物; (2)经由一照相铜版相移光罩使该光阻层同图案曝 光; (3)显影该光阻层,形成具有图案之光阻层;以及 (4)在110至180℃之温度范围中对该具有图案之光阻 层进行热处理,藉由热流使该光阻图案缩小。 2.如申请专利范围第1项之方法,其中步骤(4)中之热 处理系于110℃至180℃范围内之温度下进行30至180 秒。 3.如申请专利范围第1项之方法,其中组份(C)系选自 多元醇之化合物,该多元醇在一分子中有经至少两 个乙烯氧基取代。 4.如申请专利范围第3项之方法,其中组份(C)系环己 烷二甲醇二乙烯醚。 5.一种正型光阻组成物,其包含下列各构份,在一种 有机溶剂中形成均匀溶液: (A)100重量份数之可藉由与酸交互作用而提高在硷 性水溶液中之溶解度的树脂化合物,其为一种聚羟 基苯乙烯、以羟基苯乙烯为底质之共聚物、或由 一种以上以羟基苯乙烯为底质之共聚物所构成的 混合物; (B)自1至20重量份数之可藉由照射一种辐射而产生 酸之化合物; (C)自0.1至25重量份数之在分子中具有至少两个乙 烯氧基之化合物,此等乙烯氧基可与组份(A)反应形 成交联;以及 (D)自0.01至1重量份数之有机胺化合物。 6.如申请专利范围第5项中之组成物,其中组份(A)系 一种聚羟基苯乙烯树脂,其重量平均分子量在2000 至30000范围内,分子量分散度不超过6.0,其中10至60% 羟基之氢原子被可酸解离基团取代,该可酸解离基 团选自第三丁基氧羰基、第三丁基氧羰基甲基、 第三丁基、四氢喃基、四氢喃基、1-乙氧基 乙基与1-甲氧基丙基。 7.如申请专利范围第5项之组成物,其中组份(A)系一 种由下列组份所构成的混合物:(a1)一种以羟基苯 乙烯为底质之共聚物,其包含作为单体单位部分之 10至60莫耳%之第三丁基氧羰基苯乙烯单位,而且重 量平均分子量为2000至30000重量平均分子量分散度 不超过6.0,以及(a2)一种以羟基苯乙烯为底质之共 聚物,其包含作为该单体单位部分之10至60莫耳%之 烷氧基烷基氧苯乙烯单位,而且重量平均分子量为 2000至30000,重量平均分子量分散度不超过6.0,(a1):(a2 )的重量比例为10:90至90:10。 8.如申请专利范围第5项之组成物,其中组份(A)系一 种由下列组份所构成的混合物:(a3)一种以羟基苯 乙烯为底质之共聚物,其包含作为单体单位部分之 10至60莫耳%之四氢喃基氧苯乙烯单位,而且重量 平均分子量为2000至30000重量平均分子量分散度不 超过6.0,以及(a2)一种以羟基苯乙烯为底质之共聚 物,其包含作为该单体单位部分之10至60莫耳%之烷 氧基烷基氧苯乙烯单位,而且重量平均分子量为 2000至30000,重量平均分子量分散度不超过6.0,(a3):(a2 )的重量比例为10:90至90:10。 9.如申请专利范围第5项之组成物,其中组份(A)系一 种由下列组份所构成的混合物:(a4)一种以羟基苯 乙烯为底质之共聚物,其包含作为单体单位部分之 10至60莫耳%之第三丁基氧苯乙烯单位,而且重量平 均分子量为2000至30000重量平均分子量分散度不超 过6.0,以及(a2)一种以羟基苯乙烯为底质之共聚物, 其包含作为该单体单位部分之10至60莫耳%之烷氧 基烷基氧苯乙烯单位,而且重量平均分子量为2000 至30000,重量平均分子量分散度不超过6.0,(a4):(a2)的 重量比例为10:90至90:10。 10.如申请专利范围第5项之组成物,其中组份(A)系 一种由羟基苯乙烯单位与丙烯酸或甲基丙烯酸单 位组成之共聚物,其中该丙烯酸或甲基丙烯酸单位 中的羧基之氢原子被可酸解离基团取代,该可酸解 离基团选自第三烷基、1-烷基环己基、2-烷基环己 基与2-烷基多环烷基。 11.如申请专利范围第5项之组成物,其中组份(A)系 重量平均分子量在2000至30000范围内,由40至80莫耳% 羟基苯乙烯单位、10至40莫耳%苯乙烯单位与2至30 莫耳%其中羧基之氢原子被可酸解离基团取代的丙 烯酸或甲基丙烯酸单位所组成之共聚物。 12.如申请专利范围第5项之组成物,其中组份(C)系 选自多元醇之化合物,该多元醇在一分子中有经至 少两个乙烯氧基取代。 13.如申请专利范围第12项之组成物,其中组份(C)系 一种烷二醇之二乙烯醚,其分子中具有一个脂环结 构。 14.如申请专利范围第13项之组成物,其中组份(C)系 环己烷二甲醇二乙烯醚。 15.如申请专利范围第5项之组成物,其中组份(D)系 系一种胺化合物,其系选自二元脂族胺类与三元脂 族胺类。 16.如申请专利范围第15项之组成物,其中组份(D)系 选自二甲胺、三甲胺、二乙胺、三乙胺、三正丙 胺、三异丙胺、三正丁胺、三异丁胺、三-第三- 丁胺、三戊胺、二乙醇永、三乙醇胺与三丁醇胺 。 17.如申请专利范围第16项之组成物,其中组份(D)系 二乙醇胺、三乙醇胺或三丁醇胺。 |
