HIGH-SPEED ROTATIONAL VAPOR DEFOSITION APPARATUS AND HIGH-SPEED ROTATIONAL VAPOR DEPOSITION THIN FILM FORMING METHOD,申请号KR19980033713-传众专利搜索

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发明名称	HIGH-SPEED ROTATIONAL VAPOR DEFOSITION APPARATUS AND HIGH-SPEED ROTATIONAL VAPOR DEPOSITION THIN FILM FORMING METHOD
摘要
申请公布号	KR100530477(B1)	申请公布日期	2006.03.09
申请号	KR19980033713	申请日期	1998.08.20
申请人		发明人
分类号	H01L21/20	主分类号	H01L21/20
代理机构		代理人
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