发明名称 半导体装置的制造方法及半导体装置
摘要 本发明提供一种半导体装置,是将设有基板、贯穿该基板的贯穿电极,所述贯穿电极具备设于所述基板的能动面侧的第1端子和设于与所述能动面相反的背面侧的第2端子,所述第1端子的外形被制成大于所述第2端子的外形的半导体芯片层叠于连接体上的半导体装置,其特征是,所述半导体芯片将所述第2端子借助钎焊料与所述连接体的连接端子电连接。
申请公布号 CN1744315A 申请公布日期 2006.03.08
申请号 CN200510091989.2 申请日期 2005.08.15
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 横山好彦;西山佳秀
分类号 H01L25/065(2006.01);H01L23/48(2006.01);H01L21/60(2006.01) 主分类号 H01L25/065(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 李香兰
主权项 1.一种半导体装置的制造方法,是将设有基板和贯穿该基板的贯穿电极,且所述贯穿电极具备设于所述基板的能动面侧的第1端子和设于与所述能动面相反的背面侧的第2端子,且所述第1端子的外形被制成大于所述第2端子的外形的半导体芯片,在连接体上至少层叠一层的半导体装置的制造方法,其特征是,具备:使所述半导体芯片的第2端子与设置了钎焊料的所述连接体的连接端子接触,将该半导体芯片层叠于所述连接体上的工序、通过从所述第1端子侧对所述第1端子加热加压,借助所述钎焊料将所述连接端子和所述第2端子电连接的工序。
地址 日本东京
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