发明名称 干涉仪设备以及干涉仪设备中的测量方法
摘要 本发明公开了一种干涉仪设备,设备被配置成利用光源的光来辐照参考面,利用透射通过参考面的光来辐照与参考面隔开预定距离的样本,并且根据参考面与样本之间光的干涉,产生样本的波前信息;在利用从光源输出的低相干光通量执行低相干性测量时,利用干涉方式测量样本,使得低相干光通量传输通过光程匹配通道,以便将低相干光通量分成第一光程和第二光程,同时传输通过这两个光程的各自光通量之间的光程长差等于干涉仪设备的参考面与样本之间光程的两倍;在利用从光源输出的高相干光通量执行高相干性测量时,利用干涉方式测量样本,使得在利用高相干光通量来辐照参考面和样本时,高相干光通量在与低相干光通量同轴的位置上至少入射到光程匹配通道的样本侧。
申请公布号 CN1243951C 申请公布日期 2006.03.01
申请号 CN200410002479.9 申请日期 2004.01.20
申请人 富士能株式会社 发明人 植木伸明
分类号 G01B9/02(2006.01);G01B11/30(2006.01) 主分类号 G01B9/02(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 蒋世迅
主权项 1、一种用于低相干性测量和高相干性测量的干涉仪设备,所述设备是斐索型干涉仪设备,被配置成利用光源的光来辐照参考面,利用透射通过参考面的光来辐照与所述参考面隔开预定距离的样本,并且根据所述参考面与所述样本之间光的干涉,产生所述样本的波前信息;其中在利用从所述光源输出的低相干光通量执行低相干性测量时,利用干涉方式测量样本,使得低相干光通量传输通过光程匹配通道,以便将所述低相干光通量分成第一光程和第二光程,同时传输通过这两个光程的各自光通量之间的光程长差等于所述干涉仪设备的参考面与样本之间光程的两倍;和其中在利用从所述光源输出的高相干光通量执行高相干性测量时,利用干涉方式测量样本,使得在利用所述高相干光通量来辐照参考面和样本时,高相干光通量在与低相干光通量同轴的位置上至少入射到所述光程匹配通道的样本侧。
地址 日本埼玉县