发明名称 水性基底修正液
摘要 本发明系叙述水性基底修正液之特点,该修正液包括不透光颜料,水和薄膜形成系统,该系统提供改写时间约40秒或更低之修正液。
申请公布号 TW399088 申请公布日期 2000.07.21
申请号 TW085100556 申请日期 1996.01.18
申请人 吉列公司 发明人 杨克;金.H.Ng;布莱恩.K.麦修
分类号 C09D10/00 主分类号 C09D10/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种水性基底修正液,其包括不透光颜料,薄膜形成聚合物,针状粒子,其中该针状粒子之纵横比介于5:1和10:1之间,和水,且其中该修正液包括介于45%和60%重量比间之不透光颜料,介于6%和17%重量比间之薄膜形成聚合物,介于1%和9%重量比间之该针状粒子,和介于20%和40%重量比间之该水。2.根据申请专利范围第1项之水性基底修正液,其中该不透光颜料包括二氧化钛。3.根据申请专利范围第1项之水性基底修正液,其中该针状粒子包括偏矽酸钙。4.根据申请专利范围第1项之水性基底修正液,其中该修正液包括介于1%和9%重量比间之针状粒子。5.根据申请专利范围第1项之水性基底修正液,其中该薄膜形成聚合物之玻璃转移温度低于17℃。6.根据申请专利范围第1项之水性基底修正液,其中该薄膜形成聚合物之玻璃转移温度介于10℃和30℃之间。7.根据申请专利范围第6项之水性基底修正液,其中该修正液包括一种薄膜形成温度低于17℃之薄膜形成聚合物。8.根据申请专利范围第7项之水性基底修正液,其中该修正液之颜料:薄膜形成聚合物重量比介于5:1和3:1之间。9.根据申请专利范围第1项之水性基底修正液,其中该修正液之颜料:薄膜形成聚合物重量比介于5:1和3:1之间。图示简单说明:第一图--第三图系提供以特定颜料:薄膜形成聚合物比例,改变针状粒子和坚硬薄膜形成聚合物浓度,水性修正液之预测改写时间图形。第四图--第六图系提供以特定颜料:薄膜形成聚合物比例,改变针状粒子和坚硬薄膜形成聚合物浓度,水性修正液之预测黏度图形。第七图--第九图系提供以特定颜料:薄膜形成聚合物比例,改变针状粒子和坚硬薄膜形成聚合物浓度,水性修正液之预测覆盖力图形。
地址 美国