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发明名称
One component EUV photoresist
摘要
In one embodiment, a photoactive compound may be attached to a polymer backbone. This embodiment may be more resistant to the generation of reactive outgassing components and may exhibit better contrast.
申请公布号
US7005227(B2)
申请公布日期
2006.02.28
申请号
US20040762031
申请日期
2004.01.21
申请人
INTEL CORPORATION
发明人
YUEH WANG;CAO HEIDI
分类号
G03F7/023;C08F8/30;G03C1/76;G03F7/30
主分类号
G03F7/023
代理机构
代理人
主权项
地址
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