发明名称 One component EUV photoresist
摘要 In one embodiment, a photoactive compound may be attached to a polymer backbone. This embodiment may be more resistant to the generation of reactive outgassing components and may exhibit better contrast.
申请公布号 US7005227(B2) 申请公布日期 2006.02.28
申请号 US20040762031 申请日期 2004.01.21
申请人 INTEL CORPORATION 发明人 YUEH WANG;CAO HEIDI
分类号 G03F7/023;C08F8/30;G03C1/76;G03F7/30 主分类号 G03F7/023
代理机构 代理人
主权项
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