发明名称 Behälter für eine galvanotechnische Vertikal-Behandlungsanlage und dessen Herstellverfahren
摘要 Um Leiterplatten, insbesondere mit feinsten Bohrlöchern und Sacklöchern von unter 0,1 mm Durchmesser, gleichmäßig und reproduzierbar mit hinsichtlich der Anschaffungskosten vorteilhaften Anlagen behandeln zu können, wird eine galvanotechnische Vertikal-Behandlungsanlage zur Behandlung von Werkstücken (3) vorgeschlagen, die Behälter mit einem durch Behälterwände (2, 10) und einen Behälterboden (1, 1') definierten Behälterinnenraum aufweist. Die Behälter sind aus mindestens zwei Behältermodulen gebildet. Die Wände und der Boden definieren jeweils Modulinnenräume, deren Höhe (H) gleich sind und deren Breiten (B) gleich sind.
申请公布号 DE102004039632(A1) 申请公布日期 2006.02.23
申请号 DE200410039632 申请日期 2004.08.11
申请人 ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH 发明人 SCHNEIDER, REINHARD;HAUF, UWE;SCHELLER, BRITTA
分类号 C25D17/02 主分类号 C25D17/02
代理机构 代理人
主权项
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