防护胶膜框架及利用此框架的光刻用防护胶膜组件

摘要

一种防护胶膜框架以及使用该框架的光刻用防护胶膜组件，其不仅能借由防护胶膜膜片的张力防止框架向内侧弯曲，使曝光面积减少，亦能得到尺寸精确度以及对光罩的贴附位置精确度良好的防护胶膜组件。本发明的框架，其特征为于框体至少一对的边，具有部分为朝外侧凸出的圆弧形状部分，其两侧为朝外侧凹入的圆弧形状部分，再更两外侧为直线形状部分。再者，朝外侧凹入圆弧形状部分的半径为朝外侧凸出圆弧形状部分的半径的1/3以上为宜。本发明特别适用于框架至少一对的边长为400mm以上的大型框架。

主权项

1.一种防护胶膜框架，其特征在于，在其框体至少一对的边具有：中央部分为一朝外侧凸出的圆弧形状部分，其两侧为一朝外侧凹入的圆弧形状部分，再更两外侧为一直线形状部分。