| 主权项 |
1.一种磁控管溅镀装置,其系由:真空室、在上述真 空室内将标靶保持之阴极、在上述阴极之上方将 做成与上述阴极之标靶侧对向之基板保持的阳极 、在上述阴极之下方使磁场产生用的永久磁铁、 及以标靶的大致中心为轴而使上述永久磁铁旋转 之旋转控制装置所组成的磁控管溅镀装置,其特征 为: 上述永久磁铁系由:将磁铁固定的基部、固定于上 述基部之中央部上的第1永久磁铁、及固定于上述 基部之端部,并将上述第1永久磁铁围住,其磁极之 极性与上述第1永久磁铁相反且磁场强度比上述第 1永久磁铁更弱之圆环状的第2永久磁铁所组成,并 且上述永久磁铁的上部系切断成倾斜之形状,上述 永久磁铁对于上述标靶并未倾斜配置,而配置于上 述旋转控制装置之旋转轴上。 2.一种磁控管溅镀装置,其系由:真空室、在上述真 空室内将标靶保持之阴极、在上述阴极之上方将 做成与上述阴极之标靶侧对向之基板保持的阳极 、在上述阴极之下方使磁场产生用的永久磁铁、 及以标靶的大致中心为轴而使上述永久磁铁旋转 之旋转控制装置所组成的磁控管溅镀装置,其特征 为: 上述永久磁铁系由:将磁铁固定的基部、相对于上 述永久磁铁之旋转中心,而使中心偏心并固定于上 述基部之中央部上的第1永久磁铁、及固定于上述 基部之端部并将上述第1永久磁铁围住,磁极之极 性与上述第1永久磁铁相反,且磁场强度比上述第1 永久磁铁更弱,上部与上述第1永久磁铁之上部位 于同一平面之圆环状的第2永久磁铁所组成,并且 上述永久磁铁对于上述标靶而倾斜配置,而且配置 于上述旋转控制装置之旋转轴上。 3.一种磁控管溅镀装置,其系由:真空室、在上述真 空室内将标靶保持之阴极、在上述阴极之上方将 做成与上述阴极之标靶侧对向之基板保持的阳极 、及在上述阴极之下方使磁场产生用的永久磁铁 所组成的磁控管溅镀装置,其特征为: 上述永久磁铁系由:位于上述标靶之中央部上,且 具有对于上述标靶而朝水平方向上滑动之机构的 第1永久磁铁、及磁极之极性与位于上述标靶之外 周部上之上述第1永久磁铁相反,且磁场强度比上 述第1永久磁铁更弱,上部与上述第1永久磁铁之上 部位于同一平面上所固定的第2永久磁铁所组成。 4.一种磁控管溅镀装置,其系由:真空室、在上述真 空室内将标靶保持之阴极、在上述阴极之上方将 做成与上述阴极之标靶侧对向之基板保持的阳极 、在上述阴极之下方使磁场产生用的永久磁铁、 及以标靶的大致中心为轴而使上述永久磁铁旋转 之旋转控制装置所组成的磁控管溅镀装置,其特征 为: 上述永久磁铁系由:将磁铁固定的基部、固定于上 述基部之中央部上的第1永久磁铁、及固定于上述 基部之端部,并将上述第1永久磁铁围住,磁极之极 性与上述第1永久磁铁相反,且磁场强度比第1永久 磁铁更弱,上部与上述第1永久磁铁位于同一平面 的圆环状之第2永久磁铁所组成,并且上述永久磁 铁做成对于上述标靶而倾斜,并配置于上述旋转控 制装置之旋转轴上。 5.一种磁控管溅镀装置,其系由:真空室、在上述真 空室内将标靶保持之阴极、在上述阴极之上方将 做成与上述阴极之标靶侧对向之基板保持的阳极 、在上述阴极之下方使磁场产生用的永久磁铁、 及以标靶的大致中心为轴而使上述永久磁铁旋转 之旋转控制装置所组成的磁控管溅镀装置,其特征 为: 上述永久磁铁系由:将磁铁固定的基部、相对于上 述永久磁铁之旋转中心,而使中心偏心并固定于上 述基部之中央部上的第1永久磁铁、及固定于上述 基部之端部,并将上述第1永久磁铁围住,磁极之极 性与上述第1永久磁铁相反,且磁场强度比上述第1 永久磁铁更弱,上部与上述第1永久磁铁之上部位 于同一平面之圆环状的第2永久磁铁所组成,并且 上述永久磁铁对于上述标靶而倾斜,并配置于上述 旋转控制装置之旋转轴上,且上述第1永久磁铁系 配置于比上述标靶之中心更下方倾斜之位置上。 6.一种磁控管溅镀装置,其系由:真空室、在上述真 空室内将标靶保持之阴极、在上述阴极之上方将 做成与上述阴极之标靶侧对向之基板保持的阳极 、在上述阴极之下方使磁场产生用的永久磁铁、 及以标靶的大致中心为轴而使上述永久磁铁旋转 之旋转控制装置所组成的磁控管溅镀装置,其特征 为: 上述永久磁铁系由:将磁铁固定的基部、固定于上 述基部之中央部上的第1永久磁铁、及固定于上述 基部之端部,并将上述第1永久磁铁围住,磁极之极 性与上述第1永久磁铁相反且磁场强度比上述第1 永久磁铁更弱的第2永久磁铁所组成,并且上述永 久磁铁的上部,是以随着从上述第1永久磁铁的旋 转中心偏心而以其高度减低的方式,做成将全体切 断成倾斜之形状、或不同高度之形状。 图式简单说明: 第1图系显示本发明之第1实施例的磁控管溅镀装 置之剖面图。 第2图系显示使用于本发明之第1实施例的轭型永 久磁铁之构造的立体图。 第3图系用来说明轭型永久磁铁从左斜上方朝向右 斜下方倾斜之情况的冲蚀部之形成的轭型永久磁 铁附近之放大剖面图。 第4图系用来说明轭型永久磁铁从右斜上方朝向左 斜下方倾斜之情况的冲蚀部之形成的轭型永久磁 铁附近之放大剖面图。 第5图系显示形成于标靶上之冲蚀部,(A)系第1及第4 实施例之情况的概念剖面图,(B)系第2及第3实施例 之情况的概念剖面图,(C)系第5实施例之情况的概 念剖面图,(D)系显示习知之情况的概念剖面图。 第6图系显示形成于标靶上之冲蚀部的实测,(A)系 从第1及第4实施例之中心朝半径方向的标靶之实 测剖面图,(B)系从第2实施例之中心朝半径方向的 标靶之实测剖面图,(C)系从第5实施例之中心朝半 径方向的标靶之实测剖面图,(D)系从习知例之中心 朝半径方向的标靶之实测剖面图。 第7图系显示本发明之第2实施例的轭型永久磁铁 附近,用来说明第1轭型永久磁铁之中心对于标靶 之中心而朝右侧方向偏心之情况的冲蚀部之形成 的轭型永久磁铁附近之放大剖面图。 第8图系用来说明第1轭型永久磁铁之中心对于标 靶之中心而朝右侧方向偏心之情况的冲蚀部之形 成的轭型永久磁铁附近之放大剖面图。 第9图系显示本发明之第4实施例的磁控管溅镀装 置之剖面图。 第10图系显示使用于本发明之第4实施例中的轭型 永久磁铁之构造的立体图。 第11图系显示本发明之第5实施例的磁控管溅镀装 置之剖面图。 第12图系本发明之第6实施例的的磁控管溅镀装置 之轭型永久磁铁附近之放大剖面图。 第13图系显示习知技术例的磁控管溅镀装置之剖 面图。 |
