发明名称 化学机械研磨液组合物及金属膜的研磨方法
摘要 一种化学机械研磨液组合物,至少是由研磨料安定剂、烷基铵盐衍生物、酸溶液及研磨料所构成。研磨料安定剂为二价金属化合物或二价金属化合物。烷基铵盐衍生物用于降低介电层研磨速率,以提高金属层与介电层之磨除选择比。酸溶液用于调整pH值及作为缓冲溶液。此种化学机械研磨液组合物可以高速研磨钨。
申请公布号 TW200607014 申请公布日期 2006.02.16
申请号 TW093124308 申请日期 2004.08.13
申请人 伊默克化学科技股份有限公司 发明人 朱家助;陈瑞芳;沈国宏;郑裕隆
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 台北市松山区南京东路5段188号6楼之5
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