发明名称 有机寡聚物之结晶化方法、含有该方法制得之有机寡聚物之环氧树脂组成物以及环氧树脂硬化物
摘要 为提供一种有机寡聚物之结晶化方法,其不须使用特殊装置与大量能源,即可将结晶速度缓慢之有机寡聚物在短时间内结晶;并提供一种半导体密封用之环氧树脂组成物,其含有该方法制得之有机寡聚物。本发明之有机寡聚物之结晶化方法,其特征为,在使粉状或粒状有机寡聚物晶种在具备粉体搅拌机构之装置内呈流动化状态下,将液状且同种之结晶性有机寡聚物连续或分批地添加于该装置内,使其混合分散后在该装置中生成结晶体。
申请公布号 TWI286948 申请公布日期 2007.09.21
申请号 TW093112479 申请日期 2004.05.04
申请人 东都化成股份有限公司 发明人 中村义明;中村幸夫;矢岛英明;稻角小治;朝荫秀安
分类号 B01F3/14(2006.01) 主分类号 B01F3/14(2006.01)
代理机构 代理人 林镒珠 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 1.一种有机寡聚物之结晶化方法,其特征为,在具备 粉体搅拌机构之装置内使粉状或粒状有机寡聚物 晶种呈流动化状态下,将液状且同种之结晶性有机 寡聚物连续或分批地添加于该装置中,使其混合分 散后在该装置内生成结晶体。 2.如申请专利范围第1项之结晶化方法,其中,在该 装置内生成结晶体之温度,系较该有机寡聚物之熔 点低10℃以下之温度,且为200℃至0℃温度范围内。 3.如申请专利范围第1或2项之结晶化方法,其去除 结晶热之方法,系使用附设于具备粉体搅拌机构之 装置之冷却装置,或将预先冷却之惰性气体导入具 备粉体搅拌机构之装置。 4.如申请专利范围第1项之结晶化方法,系由具备粉 体搅拌机构之装置取出全部或部分有机寡聚物结 晶体,经过粉碎机后连续或分批地再度供给该装置 ,以连续生成有机寡聚物结晶体。 5.如申请专利范围第1项之结晶化方法,其中,该有 机寡聚物为结晶性树脂低分子量聚合物。 6.如申请专利范围第1项之结晶化方法,其中,该有 机寡聚物为结晶性环氧树脂低分子量聚合物。 7.如申请专利范围第1项之结晶化方法,其中,该有 机寡聚物结晶体之结晶化率为65%以上。 8.一种结晶性环氧树脂组成物,其特征在于,其必须 成分包含:申请专利范围第6或7项之结晶化方法所 制得之环氧树脂低分子量聚合物、与环氧树脂硬 化剂。 9.一种电子零件密封用结晶性环氧树脂组成物,其 特征在于,其必须成分包含:申请专利范围第6或7项 之结晶化方法所制得之环氧树脂低分子量聚合物 、与环氧树脂硬化剂。 10.一种硬化物,其特征为,系将申请专利范围第8或9 项之环氧树脂组成物硬化而得。 图式简单说明: 图1为有机寡聚物连续结晶之制程流程图。
地址 日本
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