发明名称 Substrat mit Leiterbahnen und Herstellung der Leiterbahnen auf Substraten für Halbleiterbauteile
摘要 Die Erfindung betrifft ein Substrat (1) mit Leiterbahnen (2) und Kontaktflächen (3, 16). Die Leiterbahnen (2) weisen ein Verdrahtungsmuster (4) auf, welches die Kontaktflächen (3, 16) miteinander verbindet. Die Leiterbahnen (2) weisen darüber hinaus eine kleine Leiterbahnbreite (b) auf. Die Kontaktflächen (16) und/oder die Leiterbahnen (2) bilden ein enges Anschlussraster (18) und weisen elektrisch leitende Kohlenstoff-Nanoröhren (6) auf. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung derartiger Leiterbahnen (2) und zur Herstellung entsprechender Halbleiterbauteile.
申请公布号 DE102004035368(A1) 申请公布日期 2006.02.16
申请号 DE20041035368 申请日期 2004.07.21
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 HAIMERL, ALFRED;BEER, GOTTFRIED;DANGELMAIER, JOCHEN;MUELLER, KLAUS;PRESSEL, KLAUS;MENGEL, MANFRED
分类号 B82B1/00;B82B3/00;H01L21/48;H01L21/60;H01L23/498;H01L23/50 主分类号 B82B1/00
代理机构 代理人
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